半導體酸堿廢氣處理方法
半導體行業酸堿廢氣處理通常采用液體噴淋法，又稱化學洗滌法。因液體自身具有的溶解特性，可以更好地捕捉沉降，溶解去除污染物，而達到大氣排放標準，故噴淋法是半導體行業酸堿廢氣治理普遍采用的主要處理方法。
半導體有機廢氣處理方法
半導體行業有機廢氣處理方法，通常先用沸石轉輪對VOCs進行吸附濃縮之后，再用直接燃燒法進行銷毀，廢氣凈化率達到97%以上。
直接燃燒又稱為直接火焰燃燒，它是把VOCs可燃組分直接燒掉，因此該方法適用于凈化可燃有害組分濃度較高的廢氣，或者凈化有害組分燃燒時熱值較高的廢氣；多種可燃氣體或多種溶劑蒸氣混合在廢氣中，只要濃度值適宜，也可以直接燃燒。如果可燃組分的濃度高于燃燒上限，可以混入空氣后燃燒；如果可燃組分的濃度低于燃燒下限，則可以加入一定數量的輔助燃料如天然氣等，維持燃燒。
半導體廢氣處理廢氣介紹：由于半導體工藝對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發為主。這些廢氣主要可以分為四類：酸性廢氣、堿性廢氣、有機廢氣和有毒廢氣。廢氣危害：半導體制造工藝中產生的廢氣如果沒有經過很好的處理進行排放，將造成嚴重的問題，不僅影響人們的身體健康，惡化大氣環境，造成環境污染的公害事件等，也會成為半導體制造中AMC污染的重要來源。處理方法：依據這些廢氣的特性，在處理上采用水洗、氧化/燃燒、吸附、解離、冷凝等方法，針對不同污染物，可采取以下綜合處理方法：1.一般排氣系統 2.酸性、堿性廢氣處理系統 3.有機廢氣處理系統
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