光電業的蝕刻工序(濕式化學蝕刻)是利用液體化學物質與基質表面的特定材料反應溶出，蝕刻工序產生有機及無機酸共排現象，因此對于光電廠除了常有酸氣臭味排放及處理效率，還須同時符合有機物及無機酸排放標準。目前行業內多數采用濕式洗滌搭配酸堿中和設備，對于水溶性佳且解離性高的酸性氣體有不錯的凈化處理效果，但是因為濕式洗滌技術對于低濃度(＜3ppmv)的酸性氣體處理效果并不佳，尤其部分酸氣的嗅味閾值很低(10ppb)，使用傳統的處理設備，無法達到相關標準的要求，也因此經常發生居民投訴的問題。目前采用濕式洗滌設備處理酸性氣體，排氣風量約600NCMM，無法從根本上解決因酸氣所衍生的臭味問題。
光電業VOCs污染處理技術方案
本方案主要為解決濕式洗滌設備排氣所產生的臭味問題，因此選擇處理技術必須要符合能處理低濃度有機及無機酸氣，以及耐高濕度的環境技術，因此若于后端加裝一般惡臭處理常用的活性碳吸附設備，將無法達到此廢氣條件下的性能及壽命要求，因此千實建議采用常溫惡臭處理觸媒濾材，藉由對于特定吸附材的改質，提升對于酸性氣體的吸附能力，也同時具備耐高濕度的操作環境，再搭配線上再生與改質技術，可大幅延長觸媒濾材壽命達2年以上，如此即可解決所面臨的問題。